[发明专利]一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂有效
| 申请号： | 202210572090.6 | 申请日： | 2022-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN114806752B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 杨文勇;洪育林;安冠宇 | 申请（专利权）人： | 武汉宜田科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C11D10/02 | 分类号： | C11D10/02;C11D1/88;C11D3/04;C11D3/60;C11D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 438400 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂，该清洗剂以重量组分计包括：无机碱15~35份，润湿分散剂5~15，润湿分散剂3~8份，纯水余量。本发明具有如下有益效果：具有高游离碱性的单组分低泡沫类型产品，使用操作方便；对大尺寸单晶硅片表面污物的分散能力强，湿性能佳；易被漂洗、低残留；对沾污硅粉的碱蚀反应能力强，硅片表面的金属离子残留浓度极低；非常适合大尺寸单晶硅片表面的清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶大 尺寸 硅片 游离 碱度 组分 洗剂 | ||
【主权项】：
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