[发明专利]一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂

权利要求书

1.一种单晶大尺寸硅片用高游离碱度单组分清洗剂，其特征在于，所述清洗剂以重量组分计包括：无机碱15~30份，耐高碱分散剂4~8份，耐高碱润湿剂2~5份，纯水余量；

所述耐高碱分散剂为含有一种或多种具有如式（I）和式（II）的化合物，耐高碱分散剂分子链段由具有疏水性的长碳链和具有亲水性的磺酸基、胺基、聚环氧乙烷基组成；高聚合度的环氧乙烷基团能提高耐高碱分散剂的防止二次沾污的功能，磺酸基能提高耐碱分散剂的耐高碱性能；

（I）

（II）

其中，20≤x≤50，20≤y≤50，且x、y均为整数；

所述耐高碱润湿剂为含有一种或多种具有如式（III）和式（IV）的化合物；耐高碱润湿剂分子链段由具有疏水性的长碳链、环氧丙烷基和具有亲水性的磺酸基、胺基、聚环氧乙烷基组成；

（III）

（IV）

其中，3≤m≤6，2≤n≤4，且m、n均为整数；3≤p≤6，2≤q≤4，且p、q均为整数；

所述无机碱含有氢氧化铯。