[发明专利]GSPL-SNST氮化硅流延素坯及制备方法有效

专利信息
申请号: 202210563003.0 申请日: 2022-05-23
公开(公告)号: CN114800775B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 陈明;郭天枫;陈玉衡 申请(专利权)人: 江苏方达正塬电子材料科技有限公司
主分类号: B28B1/29 分类号: B28B1/29;B28B3/00;C04B35/596
代理公司: 南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270 代理人: 杜依民
地址: 210019 江苏省南京市建*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供GSPL‑SNST氮化硅流延素坯的制备方法,包括以下步骤:利用SDPR预处理系统和/或HVCM预处理系统和/或GSPL生产线制备的GSPL‑SNCS浆料,经真空消泡、流延、烘干形成厚度为T0的第一素坯。将N层除去膜带后的第一素坯进行裁切和整齐层叠并用PET真空包装袋密封后置于等静压机中在1‑40MPa压力下静压5‑40分钟,形成由多层第一素坯融合而成的第二素坯。本发明的方法生产的第一素胚的各方面性能优于之前的素胚,用等静压机让多层素胚融合,这样就保证了,切片的时候每一块的素胚性能几乎完全一致,粗糙度比较小,且无明显分层和气孔现象。我们可以根据需要去定制所需要的厚度,不会产生浪费。
搜索关键词: gspl snst 氮化 硅流延素坯 制备 方法
【主权项】:
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