[发明专利]一种修饰型笼状分子印迹聚合物的制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202210536323.7 申请日: 2022-05-17
公开(公告)号: CN114832441A 公开(公告)日: 2022-08-02
发明(设计)人: 田苗苗;佟育奎;杨雪;柴金悦 申请(专利权)人: 哈尔滨师范大学
主分类号: B01D15/38 分类号: B01D15/38;C08F283/12;C08F222/14;C08J9/26
代理公司: 北京鑫知翼知识产权代理事务所(普通合伙) 11984 代理人: 孙长江
地址: 150025 黑龙江省*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种修饰型笼状分子印迹聚合物的制备方法及应用,属于固相萃取材料领域,制备方法包括如下步骤:制备修饰型硼酸;将巯基丙酸与修饰型硼酸按照混合,溶解于甲苯中,搅拌得改性硼酸;以甲苯为溶剂、偶氮二异丁腈为引发剂,将八乙烯基POSS与改性硼酸加入三口烧瓶中,反应、过滤、旋蒸得修饰型POSS;聚合;洗脱模板,干燥。本发明通过在笼形POSS分子上修饰硼酸化合物,应用于固相萃取柱中时,可实现对药品中含有顺式二醇结构的核苷类物质含量的同时检测;本发明将自制的修饰型硼酸与乙烯基POSS接枝、修饰,笼形POSS本身具备多个活性位点,使印迹聚合物上含有数量较多的硼酸基团,能够提高物质含量测试的准确性。
搜索关键词: 一种 修饰 型笼状 分子 印迹 聚合物 制备 方法 应用
【主权项】:
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