[发明专利]一种真空蒸发源及其控制方法、真空镀膜装置在审
| 申请号： | 202210532519.9 | 申请日： | 2022-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN114875365A | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 黄稳;陈千里;廖良生;高永喜;赵平 | 申请（专利权）人： | 苏州方昇光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 苏舒音 |
| 地址： | 215124 江苏省苏州市苏州工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空蒸发源及其控制方法、真空镀膜装置，该真空蒸发源包括坩埚、加热部、反射组件、冷却部和驱动器，其中，坩埚用于存储蒸发物质；加热部至少围绕坩埚的侧壁，且用于加热坩埚；反射组件包围加热部，反射组件包括多个子反射板；冷却部包围反射组件；驱动器用于驱动子反射板旋转预设角度，以调整反射组件的反射率。本发明实施例的技术方案通过驱动子反射板旋转预设角度，可以调整反射组件的反射率，解决蒸镀时坩埚温度不均匀和/或蒸镀后降温时间长等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 蒸发 及其 控制 方法 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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