[发明专利]一种高有序度石墨膜的制备方法及应用在审
| 申请号： | 202210521887.3 | 申请日： | 2022-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN114853002A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 何大平;钱伟;李宝文;刘晨旭 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C01B32/205 | 分类号： | C01B32/205;D01F9/30;C09K5/14;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 张文俊 |
| 地址： | 430000 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种高有序度石墨膜的制备方法及应用。本发明的高有序度石墨膜的制备方法，通过将芳纶纤维经过化学裂解得到芳纶纳米纤维分散液，再将芳纶纳米纤维分散液制备成膜，得到芳纶纳米纤维膜，再将芳纶纳米纤维膜分别经过碳化、石墨化后即得高有序度石墨膜；本申请制备得到的石墨膜石墨化程度高，柔性好，表面平整，内部褶皱缺陷少，晶粒尺寸较大；本申请制备的石墨膜具有超高的电导率(1.67×10 |
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| 搜索关键词： | 一种 有序 石墨 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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