[发明专利]集成电路器件在审
| 申请号： | 202210471876.9 | 申请日： | 2022-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN115566050A | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 李商文;金真范;金孝珍;南勇准;郑秀珍 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L29/15 | 分类号： | H01L29/15;H01L29/78;H01L27/088;H01L29/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种集成电路(IC)器件包括在衬底上在第一横向方向上延伸的鳍型有源区。栅极线在鳍型有源区上在第二横向方向上延伸。第二横向方向与第一横向方向交叉。沟道区在衬底和栅极线之间。源极/漏极区在鳍型有源区上与栅极线相邻，并具有面对沟道区的侧壁。超晶格阻挡物在衬底和沟道区之间。超晶格阻挡物与源极/漏极区接触。超晶格阻挡物具有包括掺有氧原子的半导体层的多个第一子层和包括未掺杂的半导体层的多个第二子层被交替堆叠的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 器件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210471876.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种点写笔及应用点写笔的书写轨迹记录方法及系统
- 下一篇：一种蓝牙找货设备
- 同类专利
- 专利分类
