[发明专利]一种解决多尺寸晶圆传送的工艺方法在审
申请号: | 202210457239.6 | 申请日: | 2022-04-28 |
公开(公告)号: | CN114823446A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 张志强;杨平 | 申请(专利权)人: | 上海稷以科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01J37/32 |
代理公司: | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人: | 马正红 |
地址: | 201100 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种解决多尺寸晶圆传送的工艺方法,是由机器人将晶圆放置于晶圆升降针上,晶圆升降针处于升起状态;待开始真空至腔体压力低于100mT时,晶圆升降针下降,将晶圆放置于载盘表面,此时由于腔体内部为真空环境,所以晶圆在下降接触载盘的瞬间过程中不会存在气压差来使晶圆位置发生偏移;在工艺结束后,晶圆升降针先升起后腔体,然后执行充气动作,使腔体充气至大气压状态,避免了腔体充气时晶圆出现偏移的情况。本发明方法在不更换腔体限位环的前提下,实现了两种以上尺寸晶圆的自动传片,避免了由于限位环的频繁更换引起的腔体环境的不断破坏,保证了腔体环境的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 解决 尺寸 传送 工艺 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造