[发明专利]用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统有效
| 申请号： | 202210442761.7 | 申请日： | 2022-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN114536220B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 王春龙;许振杰;陈映松;路新春;王同庆 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B57/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的修整装置、方法及化学机械抛光系统，所述修整装置包括固定座、摆臂和修整器，所述修整器设置于摆臂的端部并绕固定座摆动；所述修整器包括可旋转的修整头，所述修整头包括连接盘、承载盘和修整盘，所述连接盘的至少一部分具有弹性，所述承载盘铰接于连接盘的下方，承载盘的下方固定有所述修整盘，以实现所述修整盘的自适应倾斜和/或移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 修整 装置 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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