[发明专利]一种可控合成暴露晶面的ZnMn2有效

专利信息
申请号: 202210440632.4 申请日: 2022-04-25
公开(公告)号: CN114950408B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 张高科;程强;李源 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: B01J23/34 分类号: B01J23/34;B01J37/08;B82Y30/00;B82Y40/00;C01G45/12;B01D53/80;B01D53/72;B01D53/44;C09K5/14
代理公司: 武汉大楚知识产权代理有限公司 42257 代理人: 徐杨松;高源
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种可控合成暴露晶面的ZnMn2O4催化剂方法及ZnMn2O4催化剂和其应用,包括如下步骤:S100、以Mn(CH3COO)2·4H2O和Zn(CH3COO)2·2H2O为原料,加入草酸、乙醇和N‑N二甲基甲酰胺溶液,并通过溶剂热反应,得到ZnMn2O4前驱体;S200、将ZnMn2O4前驱体在600℃和空气的条件下得到暴露{010}晶面的ZnMn2O4催化剂。本发明的有益效果是:本发明利用尖晶石结构化合物ZnMn2O4良好的光吸收能力和光热转化能力,以及调控合适晶面可以暴露出大量的催化剂活性位点,采用溶剂热法和煅烧法相结合的制备工艺,获得的暴露{010}晶面的ZnMn2O4催化剂,其在较低环境温度下(156℃)实现甲苯污染物高效转化;且溶剂热法和煅烧法相结合的制备工艺,具有操作简单、安全、成本低等优点,ZnMn2O4催化剂的制备原料来源广泛、易得。
搜索关键词: 一种 可控 合成 暴露 znmn base sub
【主权项】:
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