[发明专利]用于清洁光掩模的表面的清洁设备在审
申请号: | 202210440394.7 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN114951139A | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 柯定贤;温志伟;林重宏 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;B08B13/00 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 王素琴 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种用于清洁光掩模的表面的清洁设备,包含:壳体,界定腔室;光掩模固持器,安置于腔室内;以及气体分配器,安置于腔室内以朝向光掩模固持器引导气体。气体分配器具有两个或大于两个气体分配出口。驱动器耦合到光掩模固持器或气体分配器中的至少一个以在光掩模固持器与气体分配器之间建立相对移动。 | ||
搜索关键词: | 用于 清洁 光掩模 表面 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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