[发明专利]蒸气压稳定的MO源装置及蒸气压稳定的MO源供给方法在审
申请号: | 202210436515.0 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN114686856A | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 闫其昂;王国斌;周溯沅 | 申请(专利权)人: | 江苏第三代半导体研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 马秀清 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种蒸气压稳定的MO源装置及蒸气压稳定的MO源供给方法。所述蒸气压稳定的MO源装置包括:第一MO源供给单元,用于以固态MO源向所述第二MO源供给单元补充MO源蒸气;第二MO源供给单元,用于以MO源溶液向外延生长设备内提供MO源蒸气;载气缓冲单元,至少用于使自第二MO源供给单元输出的载气中携带的溶剂与载气分离;控制单元,与所述第一MO源供给单元、第二MO源供给单元、载气缓冲单元连接,并至少用于调节所述第一MO源供给单元、第二MO源供给单元、载气缓冲单元的工作状。本发明提供的蒸气压稳定的MO源装置,可以弥补MO源溶液中固态MO源的消耗,维持MO源溶液中的蒸气压稳定,进而提高外延生长工艺稳定性。 | ||
搜索关键词: | 蒸气 稳定 mo 装置 供给 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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