[发明专利]一种高均匀性ITO靶材的制备方法有效
| 申请号： | 202210420586.1 | 申请日： | 2022-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN114890774B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 樊繁;吴伯增;魏宗武;邓久帅;王莉莉;胡明振;徐灿辉;赵明勇 | 申请（专利权）人： | 柳州华锡有色设计研究院有限责任公司 |
| 主分类号： | C04B35/01 | 分类号： | C04B35/01;C04B35/453;C04B35/622;C04B35/626;C23C14/08 |
| 代理公司： | 广西南宁公平知识产权代理有限公司 45104 | 代理人： | 黄永校 |
| 地址： | 545616 广西壮族自治区柳*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高均匀性ITO靶材的制备方法，包括如下步骤：以共沉淀反应制备出的ITO粉体为原料，将纯水、助烧剂、催化剂、分散剂按一定添加方法与原料进行球磨混合，达到一定粘度得到ITO浆料再加入一定量的粘结剂，充分搅拌进行冷冻干燥，采用二次成型方法，先预压，再冷等静压制成均匀的ITO生坯，将ITO生坯升温至300～700℃保温进行脱脂，然后升温至1500～1650℃保温，最后随炉冷却至室温,得到均匀的ITO靶材烧结体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 ito 制备 方法 | ||
【主权项】：
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