[发明专利]一种高均匀性ITO靶材的制备方法

权利要求书

1.一种高均匀性ITO靶材的制备方法，包括：（1）采用共沉淀反应制备出的ITO粉体为原料；其特征在于，所述ITO粉体中氧化铟和氧化锡质量比为8.5～9.9：1，形貌近球形，比表面积6～30 m²/g，还包括：

（2）将纯水、助烧剂、催化剂、分散剂按一定顺序与原料进行球磨混合，达到一定粘度后得到ITO浆料，继续搅拌；

所述纯水添加量按ITO浆料固含量70～90%进行配比，助烧剂为SiO₂，添加量为ITO干粉原料重量的0.5～4.0‰；催化剂为磷酸一氢铵，添加量为ITO干粉原料重量0.2～4.0‰；分散剂为聚丙烯酸铵，添加量为ITO干粉原料重量1.0～2.0%，添加剂的添加顺序为纯水——助烧剂——催化剂——分散剂——ITO干粉，各种添加剂间隔加入时间为5～10min，所述ITO浆料粘度≥1000mPa.s时停止球磨；

（3）ITO浆料中加入一定量的粘结剂，充分搅拌后进行冷冻干燥，所述粘结剂为丙烯酸乳液，添加量为ITO浆料重量的2～10‰；

（4）冷冻干燥后的ITO粉体采用二次成型方法，先在液压机中预压，再入冷等静压机冷压制成均匀的ITO生坯；

（5）将ITO生坯升温至300～700℃保温1～7h进行脱脂，然后在体积浓度≥99.5%氧气氛下升温至1500～1650℃保温3～8h，随炉冷却至室温,得到均匀的ITO靶材烧结体。

2.根据权利要求1所述的高均匀性ITO靶材的制备方法，其特征在于：步骤（2）所述球磨采用循环式球磨机。

3.根据权利要求1所述的高均匀性ITO靶材的制备方法，其特征在于：步骤（3）所述粘结剂为丙烯酸乳液，添加量为ITO浆料重量的2～10‰。

4.根据权利要求1所述的高均匀性ITO靶材的制备方法，其特征在于：步骤（3）所述冷冻干燥是放入真空冷冻干燥机，真空度1～10Pa，温度-10～-60℃，冷冻1～3天，再放入低温烘箱，烘箱温度为50～80℃，烘干1～3天。

5.根据权利要求1所述的高均匀性ITO靶材的制备方法，其特征在于：步骤（5）所述ITO靶材烧结升温脱脂处理过程炉体在-0.01～-0.06MPa真空压力下进行，在氧气氛下升温至1500～1650℃，通氧时保持炉体内的氧气压力处于恒定压力状态，烧结结束前1～4小时停止通氧。