[发明专利]一种基底制作定形方法及基底在审

专利信息
申请号: 202210418324.1 申请日: 2022-04-20
公开(公告)号: CN114769372A 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 闫光;杨光;张忠平;李真 申请(专利权)人: 希罗镜下医疗科技发展(上海)有限公司
主分类号: B21D5/00 分类号: B21D5/00;B21C51/00
代理公司: 北京中和立达知识产权代理有限公司 11756 代理人: 杨磊
地址: 201203 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种基底及基底制作定形方法,涉及金属材料性能分析及结构加工技术领域,基底制作定形方法包括:制造步骤,制作用于定形的基底;弯曲步骤,等温弯曲基底,获得弯曲角度α,以如下方式修正弯曲半径R0其中,k为修正系数,h为基底在被弯曲至最大程度的状态下最高点与最低点之间的距离,A为基底在被弯曲至最大程度的状态下左右两端的距离,S为基底的厚度;本发明利用等温弯曲成形技术对薄片进行弯曲化处理,并对不同的等温温度进行相对误差计算,以达到贴合被测曲面的目的,对等温成型制备基底具有良好的研究前景,且对弯曲半径进行了修正,有利于降低定形后的基底的形状的相对误差,从而实现稳定测量和高灵敏度的效果。
搜索关键词: 一种 基底 制作 定形 方法
【主权项】:
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