[发明专利]一种ITO靶材烧结尺寸控制方法在审
| 申请号： | 202210415504.4 | 申请日： | 2022-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN114702312A | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 唐安泰 | 申请（专利权）人： | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/457 | 分类号： | C04B35/457;C04B35/622;C04B35/64;C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 长沙鑫泽信知识产权代理事务所(普通合伙) 43247 | 代理人： | 李翠梅 |
| 地址： | 412000 湖南省株洲*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种ITO靶材烧结尺寸控制方法，本发明作为一种ITO靶材烧结尺寸控制方法，通过晾坯：将ITO靶材坯体，放置5‑10天；对位：将ITO靶材坯体放置在承烧板上；烧结：将承烧板放置在烧结炉内，盖上炉盖，向烧结炉内通入氧气；缩板：控制承烧板聚拢，烧结完成降温开炉，得到相对密度大于90％的ITO靶材；对ITO靶材坯体烧结过程中的垂直方向收缩偏差做出补偿，使制得ITO靶材更加均匀，从而提高ITO靶材磁控溅射的利用率；其中缩板步骤中使用一种ITO靶材烧结尺寸控制装置，此装置通过转动盘上的弧形槽带动控制杆沿转动盘的径向移动，实现承烧板的收缩自如，从而补偿ITO靶材坯体底部收缩不足的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 烧结 尺寸 控制 方法 | ||
【主权项】：
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