[发明专利]光刻装置和光刻系统在审
| 申请号： | 202210373960.7 | 申请日： | 2022-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN114675507A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 李西军 | 申请（专利权）人： | 西湖大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 於菪珉 |
| 地址： | 310024 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及一种光刻装置和光刻系统。光刻装置包括：信号生成模块，信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及掩模版驱动模块，掩模版驱动模块与信号生成模块通信地连接，且掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在掩模版上形成相应的掩模版图案。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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