[发明专利]光刻装置和光刻系统

说明书

本公开涉及一种光刻装置和光刻系统。光刻装置包括：信号生成模块，信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及掩模版驱动模块，掩模版驱动模块与信号生成模块通信地连接，且掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在掩模版上形成相应的掩模版图案。

技术领域

本公开一般地涉及光刻技术领域，更具体地，涉及一种光刻装置和光刻系统。

背景技术

从1960年代初至今，半导体芯片(集成电路)生产技术一直沿着晶体管缩微的路径在发展，利用掩模版的光刻技术也一直是芯片生产中的核心技术。在光刻技术中，使用均匀的曝光光束照射掩模版来形成图案化的结构。然而，在当前的光刻技术中，一旦掩模版被制成，其中的图案就不容易再被更改。并且，如果掩模版中存在缺陷或者在掩模版的使用过程中产生了缺陷，也难以再对这些缺陷进行修复。此外，掩模版通常还具有很高的成本。上述这些因素都会导致光刻成本的升高。因此，存在对于新的光刻技术的需求。

发明内容

本公开的目的在于提供一种光刻装置和光刻系统。

根据本公开的第一方面，提供了一种光刻装置，所述光刻装置包括：信号生成模块，所述信号生成模块被配置为根据设计版图，如芯片设计版图等，生成一个或多个掩模版图案，并根据所述一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及掩模版驱动模块，所述掩模版驱动模块与所述信号生成模块通信地连接，且所述掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在所述掩模版上形成相应的掩模版图案。

在一些实施例中，掩模版驱动信号被配置为用于控制像素区域中的电解反应以改变所述像素区域的透光状态，且掩模版驱动信号包括被配置为分别施加到位于所述像素区域的两侧上的第一控制电极和第二控制电极的第一驱动信号和第二驱动信号。

在一些实施例中，掩模版驱动信号被配置为用于驱动空间光调制器产生调制光束，其中，所述调制光束具有与掩模版图案对应的空间结构且被配置为用于照射掩模版中的光致变色材料，以在所述掩模版中产生所述掩模版图案。

在一些实施例中，所述光刻装置还包括：第一光发生器，所述第一光发生器被配置为产生处于第二频带中的初始光束，所述初始光束具有在垂直于其行进方向的截面上的均匀的光强分布；以及空间光调制器，所述空间光调制器被配置为在掩模版驱动信号的作用下将所述初始光束转化为具有空间结构的调制光束。

在一些实施例中，掩模版驱动信号包括被配置为用于擦除所述掩模版上的掩模版图案的擦除信号。

在一些实施例中，所述掩模版驱动模块被配置为用于擦除所述掩模版上的掩模版图案。

在一些实施例中，所述光刻装置还包括：工件台，所述工件台被配置为承载待光刻的工件。

在一些实施例中，所述信号生成模块还被配置为生成分别与所述一组或多组掩模版驱动信号中的每组掩模版驱动信号对应的一个或多个工件定位驱动信号，工件定位驱动信号被配置为用于将待光刻的工件定位到预设位置。

在一些实施例中，所述光刻装置还包括：工件台驱动模块，所述工件台驱动模块与所述信号生成模块和所述工件台通信地连接，且所述工件台驱动模块被配置为分别根据所述一个或多个工件定位驱动信号驱动所述工件台移动到相应的预设位置。

在一些实施例中，所述光刻装置还包括：第二光发生器，所述第二光发生器被配置为产生处于第一频带中的曝光光束。

在一些实施例中，所述光刻装置还包括：投影模块，所述投影模块被配置为用于按照预设倍数将掩模版图案投影成像至待光刻的工件处。