[发明专利]光刻装置和光刻系统

权利要求书

1.一种光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：

信号生成模块，所述信号生成模块被配置为根据版图生成一个或多个掩模版图案，并根据所述一个或多个掩模版图案中的每个掩模版图案分别生成相应的掩模版驱动信号；以及

掩模版驱动模块，所述掩模版驱动模块与所述信号生成模块通信地连接，且所述掩模版驱动模块被配置为分别根据一组或多组掩模版驱动信号来控制掩模版上的各个像素区域的透光状态，以在所述掩模版上形成相应的掩模版图案。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，掩模版驱动信号被配置为用于控制像素区域中的电解反应以改变所述像素区域的透光状态，且掩模版驱动信号包括被配置为分别施加到位于所述像素区域的两侧上的第一控制电极和第二控制电极的第一驱动信号和第二驱动信号。

3.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，掩模版驱动信号被配置为用于驱动空间光调制器产生调制光束，其中，所述调制光束具有与掩模版图案对应的空间结构且被配置为用于照射掩模版中的光致变色材料，以在所述掩模版中产生所述掩模版图案。

4.根据权利要求3所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

第一光发生器，所述第一光发生器被配置为产生处于第二频带中的初始光束，所述初始光束具有在垂直于其行进方向的截面上的均匀的光强分布；以及

空间光调制器，所述空间光调制器被配置为在掩模版驱动信号的作用下将所述初始光束转化为具有空间结构的调制光束。

5.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，掩模版驱动信号包括被配置为用于擦除所述掩模版上的掩模版图案的擦除信号。

6.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述掩模版驱动模块被配置为用于擦除所述掩模版上的掩模版图案。

7.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

工件台，所述工件台被配置为承载待光刻的工件。

8.根据权利要求7所述的光刻装置，其特征在于，所述信号生成模块还被配置为生成分别与所述一组或多组掩模版驱动信号中的每组掩模版驱动信号对应的一个或多个工件定位驱动信号，工件定位驱动信号被配置为用于将待光刻的工件定位到预设位置。

9.根据权利要求8所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

工件台驱动模块，所述工件台驱动模块与所述信号生成模块和所述工件台通信地连接，且所述工件台驱动模块被配置为分别根据所述一个或多个工件定位驱动信号驱动所述工件台移动到相应的预设位置。

10.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

第二光发生器，所述第二光发生器被配置为产生处于第一频带中的曝光光束。

11.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

投影模块，所述投影模块被配置为用于按照预设倍数将掩模版图案投影成像至待光刻的工件处。

12.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置还包括：

温控器，所述温控器包括温度保持单元，所述温度保持单元被配置为邻近于所述掩模版设置，以保持所述掩模版的温度处于预设温度范围内。

13.一种光刻系统，其特征在于，所述光刻系统包括：

根据权利要求1至12中任一项所述的光刻装置；以及

掩模版，所述掩模版被包含在所述光刻装置中或者独立于所述光刻装置设置，所述掩模版包括多个像素区域，其中，所述多个像素区域中的至少一部分像素区域的针对曝光光束的透光状态被配置为能够改变，以形成能够变化的掩模版图案。