[发明专利]一种进气装置及衬底处理设备在审
申请号: | 202210361686.1 | 申请日: | 2022-04-07 |
公开(公告)号: | CN116926507A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 谢振南;郑振宇 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/458 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 徐雯琼;南慧荣 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供一种进气装置,用于衬底处理设备,衬底处理设备包含一反应腔,所述进气装置位于反应腔上方,进气装置内部设有冷却流体通道以及分别连通外部多个工艺气体源的多个工艺气体输入管路,进气装置内部开有多个工艺气体输出通道;工艺气体输入管路通过至少一个对应的工艺气体输出通道向反应腔内提供工艺气体;冷却流体通道围绕工艺气体输入管路设置,多个工艺气体输出通道围绕冷却流体通道周向排布,冷却流体通道对工艺气体输入管路和工艺气体输出通道进行控温。本发明还提供一种衬底处理设备。通过本发明的冷却流体通道可以有效对工艺气体输入管道和工艺气体输出通道进行降温,避免了工艺气体的沉积而产生颗粒污染物,大大提高了晶圆成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 装置 衬底 处理 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的