[发明专利]密封件镀膜装置及密封件镀膜方法在审
| 申请号： | 202210351824.8 | 申请日： | 2022-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN114540788A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 朱昆;颜学庆;曹健辉;刘玮;马伟;姜文;曹祯烨;陈惠君;杜翰翔;李冬娜;刘晓兰 | 申请（专利权）人： | 等离子体装备科技（广州）有限公司;广东省新兴激光等离子体技术研究院 |
| 主分类号： | C23C16/04 | 分类号： | C23C16/04;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44614 | 代理人： | 王园园 |
| 地址： | 510000 广东省广州市白云区北太路1633*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种密封件镀膜装置及密封件镀膜方法，所述装置包括：分布式腔体结构以及导气管；所述分布式腔体结构包括多个分布式设计的腔体，每个所述腔体与需要镀膜的密封件相匹配；每个所述腔体内设有一根导气管，用于接入镀膜气体；在镀膜时，所述密封件的镀膜部位嵌入所述腔体内，与腔体密封连接；所述腔体置于真空状态，向所述导气管输入镀膜气体；所述镀膜气体通入腔体中，在所述密封件的镀膜部位的表面上沉积形成薄膜；该技术方案，可以提高镀膜效率，降低镀膜成本，提高密封件的镀膜效果，提升密封件的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 密封件 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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