[发明专利]一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法及其系统在审
| 申请号： | 202210348366.2 | 申请日： | 2022-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN114756819A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 杨文浩;邵康鹏 | 申请（专利权）人： | 杭州广立微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/18 | 分类号： | G06F17/18 |
| 代理公司： | 江苏坤象律师事务所 32393 | 代理人： | 夏纯;赵新民 |
| 地址： | 310012 浙江省杭州市西*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法，包括：获取待测试的集成电路产品，对所述集成电路产品进行测试得到测试数据流；根据集成电路产品的生产时间，以预设的单位时间将所述测试数据流依次划分成若干数据块；对所述若干数据块进行处理，分别得到若干表征数据；所述表征数据包括量化表征所述若干数据块种后一个数据块相较于前一个数据块的测试性能偏移幅度值和测试性能偏移走向。本发明的集成电路生产工艺的稳定性分析方法，能准确地反应随着时间的推移数据偏移的走向，并量化偏移的幅度，为评估生产线及生产工艺的状况提供重要的依据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 集成电路 生产工艺 稳定性 分析 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
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