[发明专利]一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法及其系统

说明书

本发明提供一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法，包括：获取待测试的集成电路产品，对所述集成电路产品进行测试得到测试数据流；根据集成电路产品的生产时间，以预设的单位时间将所述测试数据流依次划分成若干数据块；对所述若干数据块进行处理，分别得到若干表征数据；所述表征数据包括量化表征所述若干数据块种后一个数据块相较于前一个数据块的测试性能偏移幅度值和测试性能偏移走向。本发明的集成电路生产工艺的稳定性分析方法，能准确地反应随着时间的推移数据偏移的走向，并量化偏移的幅度，为评估生产线及生产工艺的状况提供重要的依据。

技术领域

本发明属于半导体设计和生产领域，特别涉及一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法及其系统。

背景技术

在集成电路制造过程中，往往需要监测各类测试数据的走向，来判断生产工艺是否正常，是否有问题出现，以便及时介入处理，提高生产效率。

以fab（晶圆厂）为例，每个wafer（晶圆） 出厂前，都会进行wat（wafer acceptancetest，晶圆接受测试）测试。Wat测试数据常被用来分析wafer生产工艺或者生产线的状况，能量化表征其稳定性状况。但是在对wat测试数据的分析处理中，目前常见的就是传统取方差的办法，但是该方法无法量化分析数据随测试时间推移，数据偏移的走向以及程度。

因此针对生产工艺的稳定性监控需求，有必要提供一种对测试数据随时间的推移的量化分析方法，以准确反应数据的走向，提高生产效率。

发明内容

本发明提供一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法，可量化分析集成电路产品的测试数据，以监控生产工艺的流程。

本发明的其他目的和优点可以从本发明所揭露的技术特征中得到进一步的了解。

为达上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本发明一技术方案提供一种集成电路生产工艺的稳定性分析方法，包括：获取待测试的集成电路产品，对所述集成电路产品进行测试得到测试数据流；根据所述集成电路产品的生产时间，以预设的单位时间将所述测试数据流依次划分成若干数据块；对所述若干个数据块进行处理，分别得到若干表征数据；所述表征数据包括量化表征所述若干数据块中后一个数据块相较于前一个数据块的测试性能偏移幅度值和测试性能偏移走向。

优选的，预设稳定性指标，在所述表征数据超出所述稳定性指标时，则报警输出。

所述集成电路产品为待进行稳定性分析的制造工艺所生产的集成电路产品或待进行稳定性分析的生产线所生产的集成电路产品；且所述集成电路产品是待进行稳定性分析的时间段内生产的全部或部分集成电路产品。

所述稳定性指标包括偏移幅度阈值或/和连续偏移数量阈值；所述连续偏移数量阈值为测试性能连续向同一方向偏移的数据块的数量阈值；所述偏移幅度阈值为所述表征数据中后一个数据块相较于前一个数据块的测试性能偏移幅度阈值。

还包括确定并输出所述若干数据块的表征数据中最大的测试性能偏移幅度值。

还包括计算所述若干数据块中测试性能连续向同一方向偏移的数据块数量。

还包括绘制所述集成电路产品的测试数据流点值图，并在所述测试数据流点值图中拟合测试结果曲线，用于辅助验证和辅助图形表示所述表征数据；其中，所述测试数据流点值图是以所述集成电路产品的生产时间作为X值、以所述集成电路产品的测试value值作为Y值绘制的点值图；所述测试结果曲线用于表征所述测试数据流的各数据块测试结果变化，所述测试结果曲线以所述数据块对应的时间中点为X值、以所述数据块中测试value值的基础值为Y值作为该数据块的点值，依次连接各数据块的点值所形成的曲线。