[发明专利]用于将利用UV辐射辐照的液体介质施加到基板上的装置在审
| 申请号： | 202210317955.4 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN114653673A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | P.德雷斯;U.迪茨;P.格拉比茨 | 申请（专利权）人： | 聚斯微技术光掩模设备两合公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B7/00;G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘茜;张一舟 |
| 地址： | 德国施特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于将已利用UV辐射充电的液体介质施加到基板的设备，其具有：壳体，其具有细长的腔室、具有朝腔室打开的至少一个入口开口、并且具有狭槽状出口开口，其与至少一个入口开口相对定位且其在腔室的长度上延伸；管元件，其沿纵向方向延伸通过腔室且对于UV辐射至少部分透明，管元件布置在腔室中，使得在管元件和腔室的壁之间形成流动空间，流动空间相对于腔室的纵向中心平面对称，纵向中心平面居中贯穿出口开口，以及使得管元件延伸到壳体中的狭槽状出口开口中，且由此在管元件和壳体之间形成两个出口狭槽，其沿纵向方向延伸；以及在管元件中的至少一个UV辐射源，其布置成使UV辐射朝着流动空间的方向且通过出口开口自壳体离开发射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 利用 uv 辐射 辐照 液体 介质 施加 到基板上 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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