[发明专利]双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用

摘要

本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺：清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor，由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻，可避免双面曝光时相互影响ITO曝光，可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良，外观良率由80％提高至95％；取消边缘走线黄光制程，采用印刷银浆工艺，无需蚀刻，解决断线、蚀刻不净等功能问题，电性良率由90％提高至98％；简化了制备工序，提高了生产效率，有效降低了生产成本。