[发明专利]双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用

说明书

本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺：清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor，由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻，可避免双面曝光时相互影响ITO曝光，可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良，外观良率由80％提高至95％；取消边缘走线黄光制程，采用印刷银浆工艺，无需蚀刻，解决断线、蚀刻不净等功能问题，电性良率由90％提高至98％；简化了制备工序，提高了生产效率，有效降低了生产成本。

技术领域

本发明涉及触摸屏技术领域，尤其涉及一种双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用。

背景技术

目前，为保证较好的安全性和较高的强度，触摸屏在车载和工控领域仍有一大部分以玻璃sensor作为功能层结构。现有玻璃sensor制程中采用Mo-Al-Mo作为边缘走线的导电材料，最小线宽线距只有达到20um/20um，由于Mo-Al-Mo蚀刻液浓度难以控制在较稳定的范围内，当蚀刻液浓度偏大时，边缘走线会出现侧蚀刻即过蚀刻现象，严重时会造成边缘走线断线；当蚀刻液浓度偏小时，边缘走线会出现蚀刻不干净的现象，严重时造成边缘走线连接，存在着侧蚀刻、断线、蚀刻不干净、连线等问题，电性良率低。此外，制备过程中需要分别对ITO玻璃的两个面进行曝光、显影、蚀刻，易造成划伤、异物等外观不良的后果，良率较低，一般在70％～80％之间。这些均造成人力和物力的损耗，增加了生产成本。

发明内容

本发明提供一种新型玻璃sensor制备方法的目的是解决现有玻璃sensor制程中的划伤、异物、断线、蚀刻不净等外观和功能问题，提高制程良率，减少人力和物力的损耗，降低生产成本，同步减少工艺流程，提高生产效率

为解决上述技术问题，本发明的双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺包括如下步骤：

步骤S1：清洗玻璃

使用弱碱性或中性的洗剂对玻璃的上下两个表面进行清洁；

步骤S2：设置UV-Cut涂层

使用淋涂、喷涂或蒸镀工艺在玻璃上表面和下表面分别形成UV-Cut涂层，玻璃的上表面为上UV-Cut涂层，玻璃的下表面为下UV-Cut涂层；

步骤S3：制备ITO玻璃

通过磁控溅射工艺，将ITO镀膜在上UV-Cut涂层和下UV-Cut涂层的表面，通过调整磁控溅射的条件控制ITO镀膜厚度得到所需方阻的ITO玻璃；

步骤S4：双面涂布光刻胶

在ITO玻璃的A面和B面同时涂布光刻胶，然后进行烘烤，烘烤温度为60℃～120℃，烘烤时间为10min～30min；

步骤S5：ITO玻璃的双面曝光、显影

将设计好的A面和B面的玻璃光罩精密曝光机中，对双面涂布有光刻胶的ITO玻璃进行双面曝光，曝光后在显影液中进行显影，将A面和B面ITO pattern显影出来，显影液由90％固体电子级KOH配制而成，再经过水洗、风干后，将ITO玻璃表面液体干燥完毕；

步骤S6：ITO玻璃的双面蚀刻

将ITO玻璃的A面和B面置于蚀刻液进行双面蚀刻，去掉面内pattern不需要的ITO，留下面内pattern需要的ITO；经过水洗、风干后再在剥膜液中将双面的光刻胶剥离除去，剥膜液由99％电子级NaOH配制而成，经过水洗、风干后得到上面内pattern和下面内pattern的ITO玻璃；