[发明专利]光掩膜储存盒及光掩膜固持方法在审
| 申请号： | 202210242935.5 | 申请日： | 2022-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN115079508A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 邱铭乾;庄家和;薛新民;温星闵 | 申请（专利权）人： | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/22 | 分类号： | G03F1/22;G03F1/66 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 韩嫚嫚;赵燕力 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光掩膜储存盒及光掩膜固持方法，包括一基座，其具有多个支撑件，每个所述支撑件用于支撑一光掩膜的一隅角，每个所述支撑件向上延伸一对限位块，该对限位块分别位于所述隅角的两个侧面；以及一封盖，对应多个所述支撑件分别配置有多个弹性下压机构，多个所述弹性下压机构与多个所述支撑件分别对应设置，每个所述弹性下压机构具有至少一弹性臂，所述弹性臂作用于对应的所述支撑件所支撑的所述光掩膜的所述隅角；其中，在所述封盖与所述基座盖合以收容所述光掩膜的状态下，该对限位块限制所述弹性臂的横向位移；本发明的光掩膜储存盒具备足够的防止外部微粒入侵的保护机制，且无须复杂结构与加工，有助于降低制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜 储存 光掩膜固持 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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