[发明专利]光掩膜储存盒及光掩膜固持方法

说明书

本发明公开一种光掩膜储存盒及光掩膜固持方法，包括一基座，其具有多个支撑件，每个所述支撑件用于支撑一光掩膜的一隅角，每个所述支撑件向上延伸一对限位块，该对限位块分别位于所述隅角的两个侧面；以及一封盖，对应多个所述支撑件分别配置有多个弹性下压机构，多个所述弹性下压机构与多个所述支撑件分别对应设置，每个所述弹性下压机构具有至少一弹性臂，所述弹性臂作用于对应的所述支撑件所支撑的所述光掩膜的所述隅角；其中，在所述封盖与所述基座盖合以收容所述光掩膜的状态下，该对限位块限制所述弹性臂的横向位移；本发明的光掩膜储存盒具备足够的防止外部微粒入侵的保护机制，且无须复杂结构与加工，有助于降低制造成本。

技术领域

本发明涉及光掩膜收容技术领域，尤其涉及一种光掩膜储存盒及光掩膜固持方法。

背景技术

目前极紫外光(Extreme Ultraviolet，EUV)光刻工艺中，光掩膜需使用双层盒的现有光掩膜传送盒(Extreme Ultraviolet Pod，EUV POD)保护，而现有光掩膜传送盒由一内盒(Extreme Ultraviolet Inner Pod，EIP)与一外盒(Extreme Ultraviolet OuterPod，EOP)组成。欲储藏光掩膜时，光掩膜置于内盒，内盒则收容于外盒中，将整个现有光掩膜传送盒放置于一氮气柜内并充填氮气，由此储存光掩膜。

此外，现有光掩膜传送盒的设计可使收容光掩膜的内盒于长距离传送期间可避免因震动与偏移所造成的微粒污染与光掩膜损伤。此外，现有光掩膜传送盒还可设计成适于载入于不同工艺设备中接受各种检测，所以内盒的结构相对于外盒更复杂，制造成本也相对较高。若将这种设计目的的光掩膜传送盒的内盒长期收容于氮气柜，不符合内盒的使用效益。

请一并参阅图1及图2所示，现有光掩膜传送盒10为一种双层盒结构，包括一内盒11和一外盒12，内盒11容置一光掩膜R，外盒12则收容内盒11。内盒11包括一基座20及一封盖30，基座20和封盖30相互配合以密封收容光掩膜R。外盒12包括外基座40和外封盖50，其中外基座40具有针对内盒11的支撑结构，外封盖50与外基座40结合以界定内盒11的容置空间。外封盖50的内侧通常可提供适当的下压结构，使外封盖50与外基座40结合时能够下压内盒11，由此形成稳定收容。外基座40一般还具有栓锁结构来将外封盖50锁定于外基座40。由于这种光掩膜传送盒10在厂务中的传送是由天车系统所执行，所以外封盖50的顶端具有可供天车手臂抓取的把手52。因此，现有光掩膜传送盒10因把手52所具有的高度而不利于堆栈储藏，且把手52会额外占用储放空间。

此外，在一般的设计中，现有内盒与现有外盒之间具有对应的相互配合机构，使得现有外盒仅能搭配对应的内盒，而无法适应性地搭配不同机构设计的内盒。言下之意，只有特定的外盒和内盒可兼容，并达到稳固收容光掩膜的效果。若使用不兼容的外盒和内盒，则无法达到期望的稳定性。当储藏光掩膜传送盒的技术考虑到制造成本和储藏效率时，现有外盒设计无法满足这样的需求。

因此，产业上需要一种可适用于长期储放的专用光掩膜储存盒及其相关方法，以及储藏专用光掩膜储存盒的光掩膜储藏系统与方法。还有，本发明发展一种以单一外盒兼容至少两种不同机构设计的内盒的技术，将有助于降低储藏成本。

现有的光掩膜传送盒，其中内盒具有由外盒施予外力以稳固的机制，即下压销(Hold Down Pin)。该机制只有在内盒收容于外盒时，才会作用于内盒中的光掩膜。例如，下压销的顶端是暴露于内盒的顶部外侧。在没有使用外盒而只传送内盒的情况下，光掩膜在内盒的稳固性不足将容易导致震动与碰撞。

此外，若将光掩膜长期储藏于专用的光掩膜储柜系统时，须将光掩膜从双层盒结构的光掩膜传送盒取出并转移至专用盒。因此，在光掩膜收容于光掩膜储柜系统之前，也需要发展兼容的光掩膜装载系统及相关方法。