[发明专利]填充单元的版图设计方法在审

专利信息
申请号: 202210235437.8 申请日: 2022-03-11
公开(公告)号: CN114692549A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 张凯;王飞舟 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06F30/394;H01L27/02
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 刘昌荣
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种填充单元的版图设计方法,提供不同的第一、二标准单元,第一、二标准单元分别由沿基准线对称的第三、四标准单元和第五、六标准单元组成,第一、二标准单元分别在基准线处的版图形状相同;设计第三标准单元,第三标准单元的版图与沿基准线相拼接的第三、六标准单元形状相同;在第一、二标准单元间插入第三标准单元。本发明实现一套标准单元库适用两种设计标准平台,提高了开发效率,节约开发成本,优化了标准单元库的设计开发流程。
搜索关键词: 填充 单元 版图 设计 方法
【主权项】:
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