[发明专利]填充单元的版图设计方法在审
申请号: | 202210235437.8 | 申请日: | 2022-03-11 |
公开(公告)号: | CN114692549A | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 张凯;王飞舟 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392;G06F30/394;H01L27/02 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 刘昌荣 |
地址: | 201203*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种填充单元的版图设计方法,提供不同的第一、二标准单元,第一、二标准单元分别由沿基准线对称的第三、四标准单元和第五、六标准单元组成,第一、二标准单元分别在基准线处的版图形状相同;设计第三标准单元,第三标准单元的版图与沿基准线相拼接的第三、六标准单元形状相同;在第一、二标准单元间插入第三标准单元。本发明实现一套标准单元库适用两种设计标准平台,提高了开发效率,节约开发成本,优化了标准单元库的设计开发流程。 | ||
搜索关键词: | 填充 单元 版图 设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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