[发明专利]用于处理高分子的工艺溶液组合物在审
| 申请号： | 202210186739.0 | 申请日： | 2022-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN115074189A | 公开（公告）日： | 2022-09-20 |
| 发明（设计）人： | 房淳洪;姜韩星;金圣植;金泰熙 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/36;C11D7/50;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/30;C11D3/32;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/43;C11D3/60;C11D7/60;H01 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 钟锦舜;姜香丹 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于处理高分子的工艺溶液组合物，其包括：氟化合物；酮类溶剂；以及极性非质子溶剂，所述酮类溶剂是从由化学式1或化学式2表示的化合物组成的组中选择的至少一种，在半导体制造工艺中，在提高对残留在晶片电路面的粘合性聚合物的去除力的同时，还具有防止对各种金属造成损坏的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 高分子 工艺 溶液 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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