[发明专利]测试结构及其形成方法、工作方法和电路有效
| 申请号： | 202210183669.3 | 申请日： | 2022-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN114236343B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 姜清华;黄玺 | 申请（专利权）人： | 常州承芯半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/00 | 分类号： | H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 朱得菊;徐文欣 |
| 地址： | 213166 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种测试结构及其形成方法、工作方法和电路，涉及半导体技术领域，结构包括：衬底，所述衬底包括若干沿第一方向和第二方向呈阵列分布的器件区，所述第一方向和第二方向不同；若干器件结构，各器件结构分别位于各器件区表面；若干漏极层，各漏极层分别与一个器件结构电连接；若干平行于第二方向的源极层，各源极层与沿第二方向排列的一排器件结构对应；若干半导体层，各半导体层分别位于任一漏极层和对应的源极层之间，且所述半导体层分别与任一漏极层以及对应的源极层相接；若干平行于第一方向的栅极结构，各栅极结构分别位于沿第一方向排列的一排半导体层表面。所述测试结构的测试效率得到提升。 | ||
| 搜索关键词： | 测试 结构 及其 形成 方法 工作 电路 | ||
【主权项】：
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