[发明专利]用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器在审
| 申请号： | 202210180337.X | 申请日： | 2022-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN114965517A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 托比亚斯·内贝尔;李亨善;塞巴斯蒂安·蒂克西尔 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N21/3563 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蒋骏;吕传奇 |
| 地址： | 加拿大安大略*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明题为用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器。本发明公开了一种方法，该方法包括接收从x射线发射器传输穿过涂覆的隔离膜的x射线信号。该方法还包括从该涂覆的隔离膜获得红外(IR)信号。这些IR信号包括两个或更多个光谱分量，这些光谱分量包括峰，这些峰包括来自该隔离膜的第一峰。该方法还包括由处理器确定是否存在第二峰，以及确定该涂覆的隔离膜内存在的涂层中是否存在至少一种污染物/添加剂。该方法还包括由该处理器计算该至少一种污染物/添加剂的浓度/面积重量以及该涂层的重量、密度或厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 lib 隔离 制造 勃姆石 检测 警告 系统 浓度 指示器 | ||
【主权项】：
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