[发明专利]用于LiB隔离片制造的勃姆石检测和警告系统及浓度指示器在审
| 申请号： | 202210180337.X | 申请日： | 2022-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN114965517A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 托比亚斯·内贝尔;李亨善;塞巴斯蒂安·蒂克西尔 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N21/3563 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蒋骏;吕传奇 |
| 地址： | 加拿大安大略*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 lib 隔离 制造 勃姆石 检测 警告 系统 浓度 指示器 | ||
1.一种方法，包括：
接收x射线信号，所述x射线信号从x射线发射器(110a,120a)传输穿过涂覆的隔离膜(180)；
从所述涂覆的隔离膜(180)获得红外(IR)信号，其中所述IR信号包括两个或更多个光谱分量，所述两个或更多个光谱分量包括峰，所述峰包括来自所述隔离膜(180)的第一峰；
由处理器(151)确定所述IR峰当中是否存在第二峰，以及由所述处理器(151)确定所述涂覆的隔离膜(180)内存在的涂层(180b)中是否存在至少一种污染物或添加剂；以及
由所述处理器(151)计算所述至少一种污染物或添加剂的浓度或面积重量以及所述涂层(180b)的重量、密度或厚度。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一种污染物或添加剂是勃姆石。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一种污染物或添加剂是粘合剂材料诸如聚偏二氟乙烯(PVDF)和勃姆石。
4.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：
由所述处理器(151)确定所述涂覆的隔离膜(180)中是否存在勃姆石。
5.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：
确定所述涂层(180b)中是否存在聚偏二氟乙烯(PVDF)。
6.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：
根据所述x射线信号确定陶瓷涂层的浓度。
7.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：
确定所述涂覆的隔离膜内的陶瓷涂层诸如氧化铝或氧化硅的重量和密度。
8.一种方法，包括：
接收一个或多个x射线信号，所述一个或多个x射线信号传输穿过包括陶瓷涂层的涂覆的隔离膜(180)；
由处理器(151)从所述涂覆的隔离膜(180)获得红外(IR)信号，所述红外信号具有针对所述涂覆的隔离膜(180)的第一峰和来自污染物或添加剂的第二峰；
由所述处理器(151)根据所述IR信号确定所述第二峰是否存在，其中所述处理器(151)确定所述涂覆的隔离膜(18)内的所述陶瓷涂层中存在的所述污染物或添加剂的类型；以及
由所述处理器(151)根据所述第二峰计算所述污染物或添加剂的浓度并且根据所述一个或多个x射线信号计算所述陶瓷涂层的浓度。
9.根据权利要求7所述的方法，所述方法还包括：
由所述处理器(151)确定所述陶瓷涂层的重量、密度或厚度。
10.根据权利要求7所述的方法，其中所述处理器(151)确定所述污染物或添加剂是粘合剂材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于霍尼韦尔有限公司，未经霍尼韦尔有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210180337.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：在GUI中表示网络对象的方法
- 下一篇：选配代理以及确定听力设备参数的方法
