[发明专利]近场用噪声抑制片及其制造方法在审
| 申请号: | 202210160947.3 | 申请日: | 2022-02-22 |
| 公开(公告)号: | CN115132158A | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
| 发明(设计)人: | 藏前雅规;广濑敬太 | 申请(专利权)人: | 株式会社理研 |
| 主分类号: | G10K11/162 | 分类号: | G10K11/162;G10L21/0208 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 陈玲;刘继富 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明的目的在于提供一种近场用噪声抑制片,其在10GHz的虚部磁导率μ”为2.0以上,在超过10GHz的频带也显现出优异的噪声抑制性能且具有充分的可挠性。本发明的近场用噪声抑制片包含由有机物构成的基材和担载于上述基材中的扁平状的Fe粉末,上述Fe粉末的Fe含量为95mass%以上、厚度为1μm以下且粉末直径为20μm以下,Fe粉末相对于上述基材的填充量为40vol%以上且70vol%以下,在粉末X射线衍射中检测的Fe的bcc(200)面的峰的半宽度为0.4以上。 | ||
| 搜索关键词: | 近场 噪声 抑制 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理研,未经株式会社理研许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210160947.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。





