[发明专利]近场用噪声抑制片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210160947.3 申请日: 2022-02-22
公开(公告)号: CN115132158A 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 藏前雅规;广濑敬太 申请(专利权)人: 株式会社理研
主分类号: G10K11/162 分类号: G10K11/162;G10L21/0208
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 陈玲;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供一种近场用噪声抑制片,其在10GHz的虚部磁导率μ”为2.0以上,在超过10GHz的频带也显现出优异的噪声抑制性能且具有充分的可挠性。本发明的近场用噪声抑制片包含由有机物构成的基材和担载于上述基材中的扁平状的Fe粉末,上述Fe粉末的Fe含量为95mass%以上、厚度为1μm以下且粉末直径为20μm以下,Fe粉末相对于上述基材的填充量为40vol%以上且70vol%以下,在粉末X射线衍射中检测的Fe的bcc(200)面的峰的半宽度为0.4以上。
搜索关键词: 近场 噪声 抑制 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社理研,未经株式会社理研许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210160947.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top