[发明专利]相位差光学膜的制备方法在审
| 申请号： | 202210136417.5 | 申请日： | 2022-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN116640337A | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 曾吉永;邱楗洺;王秀慧 | 申请（专利权）人： | 江苏矽时代材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L79/08;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 董延丽 |
| 地址： | 226133 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种相位差光学膜的制备方法，包括：在溶剂(A)中加入二胺类单体(A)及二酐类单体(A)，反应形成聚酰亚胺浆料；将聚酰亚胺浆料加入溶剂(B)中，析出复数聚酰亚胺纤维；用溶剂(C)清洗聚酰亚胺纤维；将聚酰亚胺纤维与溶剂(D)混合，得到可溶性聚酰亚胺溶液；将二胺类单体(B)及二酐类单体(B)反应形成聚酰亚胺酸溶液；将可溶性聚酰亚胺溶液与聚酰亚胺酸溶液混合成的混合溶液涂布于基板上；以及进行加热以在基板上形成由聚酰亚胺所构成的相位差光学膜。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 光学 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏矽时代材料科技有限公司，未经江苏矽时代材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210136417.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于CTT的模拟电路及加密方法
- 下一篇：一种降低EMI的升压变换器
