[发明专利]一种清洗效率高的磷化铟的清洗系统有效
| 申请号： | 202210117536.6 | 申请日： | 2022-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN114653662B | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 杨晓静;周曼;潘功寰;顾正伟 | 申请（专利权）人： | 苏州信越半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B1/00;B08B1/04;C30B33/00;C30B29/40;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司： | 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 | 代理人： | 罗炳锋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及晶片清洗技术领域，具体涉及一种清洗效率高的磷化铟的清洗系统。本发明涉及一种清洗效率高的磷化铟的清洗系统，包括：上料部可升降的设置在清洗池上端，上料部适于夹持晶片进行表面清洗；清理部可转动的设置在清洗池内，清理部能够与晶片外壁摩擦以清理晶片；沥干部固定在支架一侧，沥干部适于沥干晶片；其中上料部带动晶片浸入清洗溶液内，至晶片与清理部接触后，转动清理部以摩擦清理晶片；清洗结束后，将晶片搬运至沥干部，沥干部能够刮除晶片底部的水渍。通过在清洗池内设置清理部，在对晶片进行清洗的同时对晶片表面同步进行清理，晶片清理结束后，沥干部能够加快晶片上水渍的干燥速度，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 效率 磷化 系统 | ||
【主权项】：
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