[发明专利]一种用于193nm浸没式光刻胶顶层涂层的聚合物、制备方法及应用有效
| 申请号： | 202210099943.9 | 申请日： | 2022-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN114349898B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 马晓明;王健;杨晓松 | 申请（专利权）人： | 苏州润邦半导体材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/28 | 分类号： | C08F220/28;C08F220/38;C08F220/24;C09D133/16 |
| 代理公司： | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人： | 徐伟华 |
| 地址： | 215634 江苏省苏州市张家港保税*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于193nm浸没式光刻胶顶层涂层的聚合物、制备方法及应用，尤其涉及一种含氟丙烯酸酯类聚合物及其制备方法，本发明提供了一种可以有效减少浸没式曝光时光致产酸剂对光学镜头的污染的顶层涂层用聚合物，该聚合物可提高光刻胶顶层涂层的接触角，减少光致产酸剂的沥出。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 193 nm 浸没 光刻 顶层 涂层 聚合物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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