[发明专利]流体处理装置在审
| 申请号： | 202210085730.0 | 申请日： | 2022-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN114854549A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 井上隼仁;小野航一;中尾智贵;高松祥太;渡部康裕 | 申请（专利权）人： | 恩普乐股份有限公司 |
| 主分类号： | C12M1/34 | 分类号： | C12M1/34;C12M1/00;C12Q1/6869 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 王欢;刘芳 |
| 地址： | 日本埼玉*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及流体处理装置。流体处理装置具有：基板，包括具有第一面的基板主体；以及盖，以与基板的第一面相对且在与基板之间构成空间的方式配置。盖包括：盖主体，具有与基板相对的第二面；以及第一通孔，具有在第二面开口的第一开口部和在第二面以外的部分开口的第二开口部，且用于向空间注入流体。在流体处理装置中，盖和基板中的一者还具有垫片，在盖还具有垫片的情况下，垫片与盖主体一体成型，且垫片配置为在第一开口部和第二面的外缘之间的位置与基板紧贴，在基板还具有垫片的情况下，垫片与基板主体一体成型，且垫片配置为在与第一开口部相对的区域和第一面的外缘之间的位置与盖紧贴。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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