[发明专利]流体处理装置

说明书

本发明涉及流体处理装置。流体处理装置具有：基板，包括具有第一面的基板主体；以及盖，以与基板的第一面相对且在与基板之间构成空间的方式配置。盖包括：盖主体，具有与基板相对的第二面；以及第一通孔，具有在第二面开口的第一开口部和在第二面以外的部分开口的第二开口部，且用于向空间注入流体。在流体处理装置中，盖和基板中的一者还具有垫片，在盖还具有垫片的情况下，垫片与盖主体一体成型，且垫片配置为在第一开口部和第二面的外缘之间的位置与基板紧贴，在基板还具有垫片的情况下，垫片与基板主体一体成型，且垫片配置为在与第一开口部相对的区域和第一面的外缘之间的位置与盖紧贴。

技术领域

本发明涉及流体处理装置。

背景技术

以疾病的检查等为目的，有时对DNA的碱基序列进行分析。在碱基序列的分析中，有时使用只需微量的样本即可进行分析的小型的设备(例如，参照专利文献1)。

在专利文献1中，记载了具有基板、高反射区域、低反射区域以及DNA探针的DNA芯片(设备)。在专利文献1记载的DNA芯片中，在使目标DNA和荧光物质与DNA探针结合后的状态下，检测荧光物质产生的荧光，由此检测出目标DNA。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-317517号公报。

发明内容

发明要解决的问题

作为在基板上检测DNA的设备，可考虑如下设备，即，具有基板、构成在基板上所配置的流路的侧面的垫片、以及构成在垫片上所配置的流路的顶面的盖的设备。然而，在如上所述的基板与盖之间配置有独立于这些部件的垫片的设备中，难以使基板和垫片的接合状态恒定而高精度地形成流路，其结果为，DNA的检测结果的精度变低。

本发明的目的在于，提供如下的流体处理装置，即，能够使垫片与盖的接合状态或垫片与基板的接合状态恒定而高精度地形成用于流体流动的空间的流体处理装置。

解决问题的方案

本发明的流体处理装置具有：基板，包括具有第一面的基板主体；以及盖，以与所述基板的所述第一面相对且在与所述基板之间构成空间的方式配置，所述盖包括：盖主体，具有与所述基板相对的第二面；以及第一通孔，具有在所述第二面开口的第一开口部和在所述第二面以外的部分开口的第二开口部，且用于向所述空间注入流体，在所述流体处理装置中，所述盖和所述基板中的一者还具有垫片，在所述盖还具有垫片的情况下，所述垫片与所述盖主体一体成型，且配置为在所述第一开口部和所述第二面的外缘之间的位置与所述基板紧贴，在所述基板还具有垫片的情况下，所述垫片与所述基板主体一体成型，且配置为在与所述第一开口部相对的区域和所述第一面的外缘之间的位置与所述盖紧贴。

发明效果

根据本发明，能够提供如下的流体处理装置，即，能够使垫片与盖的接合状态或垫片与基板的接合状态恒定而高精度地形成用于流体流动的空间的流体处理装置。

附图说明

图1A、图1B是表示本发明的实施方式1的流体处理装置的结构的图；

图2A、图2B是表示本发明的实施方式1的流体处理装置中的基板的结构的图；

图3A、图3B是本发明的实施方式1的流体处理装置中的盖的立体图；

图4A～图4C是用于说明本发明的实施方式1的流体处理装置的组装方法的图；

图5A、图5B是表示本发明的实施方式1的变形例的流体处理装置的结构的图；

图6A～图6C是表示本发明的实施方式1的变形例的流体处理装置中的基板的结构的图；

图7A、图7B是本发明的实施方式1的变形例的流体处理装置中的盖的立体图；