[发明专利]基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置及方法有效

专利信息
申请号: 202210067260.5 申请日: 2022-01-20
公开(公告)号: CN114594588B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 方翔;温凯;郜鹏;马英;刘旻;郑娟娟;胡浩;王俊玲 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00;G02B21/06;G02B21/18;G01N21/01;G01N21/64
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 王萌
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置和方法,所述装置包括依次设置的结构光产生单元、相移及光强调制单元和成像单元,其中,结构光产生单元用于产生多束沿不同方向传播的平行光并干涉形成条纹结构光;相移及光强调制单元中的空间光调制器上能够加载不同图样以对条纹结构光同时进行方向选择和相移操作,空间掩膜板用于对条纹结构光进行滤波,使得仅保留每个方向上±1级衍射光而滤掉其它的衍射光;成像单元用于利用滤波后的条纹结构光照明样品并记录在不同条纹结构光照明下的荧光图像。本发明在保持高分辨率的情况下仍然具有高通量成像范围,克服了传统结构光照明显微镜成像通量受SLM或DMD本身像素个数限制的问题。
搜索关键词: 基于 光栅 投影 slm 相移 结构 照明 显微 装置 方法
【主权项】:
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