[发明专利]一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法在审
| 申请号： | 202210054707.5 | 申请日： | 2022-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN114464517A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 胡德立 | 申请（专利权）人： | 胡德立 |
| 主分类号： | H01J37/305 | 分类号： | H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 246000 安徽省安庆*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法，包括刻蚀箱，刻蚀箱上固设有放射箱，放射箱内开设有放射腔，刻蚀箱内开设有刻蚀腔，刻蚀腔的上侧壁内开设有环形的连接腔，连接腔的上侧连通设有气箱，放射腔的周壁上固设有固定板，固定板的下端面上滑动连接有两个左右对称的弧形半滑套，半滑套的外周上缠绕有线圈，刻蚀腔的下端面上设有坩埚，坩埚的上端面上固设有能够拆卸的放置台，通过推塞，推动固定板上侧气体向下运动，保持两个半滑套之间刻蚀气体的浓度，通过保持气体浓度，间接的增加了本发明的工作效率，通过半滑套的半径变化，控制等离子的冲击量，实现不同要求的刻蚀，通过改版线圈的圈数，进而改变等离子密度，提高刻蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胡德立，未经胡德立许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210054707.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
