[发明专利]一种高度稳定的PQD闪烁体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210052415.8 申请日: 2022-01-18
公开(公告)号: CN115685304A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 张志军;陈轶阳;何纬翔 申请(专利权)人: 杭州钛光科技有限公司
主分类号: G01T1/202 分类号: G01T1/202;C09K11/02;C09K11/06;C09K11/61;C09K11/66
代理公司: 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 代理人: 向庆宁;曹小燕
地址: 311113 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种高度稳定的PQD闪烁体及其制备方法,在液相PQD合成反应中,通过预先在配体上合成末端双键,利用带末端双键的配体包覆PQD表面,再经X射线照射,使配体之间的末端双键发生加成反应,相互连接成网状结构,制得核壳包覆结构的PQD闪烁体,完全解决热稳定性和辐射稳定性问题,并且不会降低PQD材料的密度或X射线截止率,保证闪烁体的性能,方法简便,成本低,应用前景广阔。
搜索关键词: 一种 高度 稳定 pqd 闪烁 及其 制备 方法
【主权项】:
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