[发明专利]高孔隙率高模量抛光层及其制备方法与抛光垫及其应用有效
| 申请号： | 202210044977.8 | 申请日： | 2022-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN114406895B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 楚慧颖;袁黎光;王杰;吴泽佳;肖亮锋;刘健;杨小牛 | 申请（专利权）人： | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24B37/22;B24D11/00;B24D3/34;B24D3/28 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 李远星 |
| 地址： | 510700 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高孔隙率高模量抛光层及其制备方法与抛光垫及其应用。所述高孔隙率高模量抛光层为热固性聚氨酯抛光层，具有丰富的孔隙结构，所述孔隙结构包括大孔隙和小孔隙，并表现出高储能模量和低密度的特征，25℃下的储能模量为50‑250MPa，可提高高孔隙率抛光垫的硬度和模量，有效改善高孔隙率抛光垫耐磨性能差、去除速率低、平坦度差的问题。所述制备方法采用湿法相分离、后进行交联固化的制备工艺，形成热固性聚氨酯抛光层，实现高孔隙率和高储能模量的统一。所述抛光垫包含所述高孔隙率高模量抛光层，实现了高平坦度和高去除速率的平衡，具有更长的使用寿命；所述的抛光垫可应用于光学衬底或半导体衬底抛光中。 | ||
| 搜索关键词： | 孔隙率 高模量 抛光 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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