[发明专利]高孔隙率高模量抛光层及其制备方法与抛光垫及其应用

权利要求书

1.一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，为热固性聚氨酯抛光层；

按质量百分比计，所述高孔隙率高模量抛光层包含如下原料组分：线性聚氨酯10~40%，交联剂0.1~5%，表面活性剂0.5~20%，色浆填料1~10%，有机溶剂70~85%；所述线性聚氨酯具有辐照敏感活性基团；

所述抛光层具有孔隙结构，所述孔隙结构包括大孔隙和小孔隙；所述大孔隙由所述抛光层的表面延伸至底面，所述小孔隙位于所述大孔隙的侧壁；

所述大孔隙在所述抛光层的表面的孔径与在所述抛光层的底面的孔径的尺寸比为0.2-1:1；所述小孔隙的直径为1-4μm；所述抛光层的孔隙率为50-80%；所述抛光层的25℃储能模量为50-250MPa。

2.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述抛光层的密度为0.2-0.6g/cm³。

3.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述抛光层的硬度为40D~65D。

4.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述大孔隙在所述抛光层的表面的孔径与底面的孔径的尺寸比为0.2-0.6:1。

5.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述大孔隙在所述抛光层的表面的孔径为上直径，在所述抛光层的底面的孔径为下直径，所述上直径为20-80μm，所述下直径为100-200μm。

6.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述大孔隙与所述抛光层的表面存在夹角。

7.根据权利要求6所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述大孔隙与所述抛光层的表面的夹角的角度为0-45°。

8.根据权利要求6所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述大孔隙与所述抛光层的表面的夹角的角度为0-30°。

9.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述小孔隙为闭孔。

10.根据权利要求9所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述小孔隙具有部分开孔，并形成联通结构。

11.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述线性聚氨酯选自聚醚聚氨酯、聚酯聚氨酯、聚碳酸酯聚氨酯、聚氨酯丙烯酸酯中的一种或多种；

和/或，所述交联剂为新戊二醇二丙烯酸酯；

和/或，所述表面活性剂包括阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂；

和/或，所述色浆填料为炭黑色浆；

和/或，所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺。

12.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述辐照敏感活性基团包括不饱和基团和/或游离羟基。

13.根据权利要求1所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述线性聚氨酯由二异氰酸酯、二元醇和小分子扩链剂组成；且所述二元醇由含有辐照敏感活性基团的二元醇和不含有辐照敏感活性基团的二元醇组成，两者摩尔比为（1~2）：（1~9）。

14.根据权利要求13所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述含有辐照敏感活性基团的二元醇和不含有辐照敏感活性基团的二元醇的摩尔比为1：5。

15.根据权利要求13所述的一种高孔隙率高模量抛光层，其特征在于，所述辐照敏感活性基团位于二元醇主链上，或键合在二元醇侧链上。