[发明专利]一种晶圆厚薄双向量测方法在审

专利信息
申请号: 202210042574.X 申请日: 2022-01-14
公开(公告)号: CN114459363A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 刘磊;高美山;姜红涛;黄金良;袁强 申请(专利权)人: 江苏汇成光电有限公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 王峰
地址: 225128 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了晶圆厚度测量领域内的一种晶圆厚薄双向量测方法,包括如下步骤:将晶圆定位放置在可在水平面内移动的量测载台上,对晶圆上需要进行量测的区域位置进行坐标扫描输入,在在量测区域内选定K个需要进行量测的点位坐标;针对待量测点位进行检测,分别根据上检测传感器接收的光束、下检测传感器接收的光束得出Thkopt和Thkopt,根据公式Thkopt/RI=Thkgeom,得到Thkgeomx;重复上述步骤K‑1次,依次针对下一个待量测点位进行检测,直至控制系统计算得到(K‑1)组Thkgeomx。本发明能够对晶圆Wafer进行多点位量测,作业模式多样化,可满足多元化的量测需求;通过上下双检测传感器作业模式,实现提高量测精度。
搜索关键词: 一种 厚薄 双向 方法
【主权项】:
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