[发明专利]镜斑位置校准方法、光刻设备和器件制造方法在审
| 申请号： | 202180078767.4 | 申请日： | 2021-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN116472436A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | J·M·T·A·阿德里安斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B9/02018 | 分类号： | G01B9/02018 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于校准干涉仪系统的反射镜上的斑点位置的方法，干涉仪系统包括至少两对干涉仪，用于提供物体围绕旋转轴的旋转位置的冗余测量，其中方法包括以下步骤：a.旋转物体；b.使用至少两对干涉仪中的每一对干涉仪来测量物体围绕旋转轴的旋转位置的变化；c.确定由至少两对干涉仪中的一对干涉仪测量的旋转位置的变化与由至少两对干涉仪中的另一对干涉仪测量的旋转位置的变化相比或者与由两对或更多对干涉仪测量的旋转位置的平均变化相比的偏差；以及d.基于所确定的偏差，获得与至少两对干涉仪中的所述一对干涉仪的反射镜上的斑点位置有关的信息。 | ||
| 搜索关键词： | 位置 校准 方法 光刻 设备 器件 制造 | ||
【主权项】：
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