[发明专利]口腔处理设备在审
| 申请号: | 202180038397.1 | 申请日: | 2021-05-20 |
| 公开(公告)号: | CN115715162A | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
| 发明(设计)人: | P·布兰多·西尔瓦;L·C·格哈特;M·T·约翰森;G·J·N·多德曼 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | A46B15/00 | 分类号: | A46B15/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 吴岩琨 |
| 地址: | 荷兰艾恩*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件,用于限制具有在100kHz至300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中,其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分,包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。该口腔处理单元还包括耦合到口腔处理单元的材料结构,其适于接收初始电磁场并且输出聚焦电磁场,其中该材料结构具有无源电磁场聚焦功能,其将接收到的初始电磁场聚焦在该材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件,用于限制和调制具有在1MHz至300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中,其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分,包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。口腔处理单元还包括适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场的电磁场聚焦元件。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构,第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将调制的电磁场限制在距第一材料结构的给定距离处:在第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能;或者对电磁场的传播方向修改功能。电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能,从而产生调制电磁场。 | ||
| 搜索关键词: | 口腔 处理 设备 | ||
【主权项】:
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