[发明专利]口腔处理设备

权利要求书

1.一种口腔处理单元(300)，用于限制和调制具有在1MHz至300GHz的范围内的频率的电磁场并且适于被插入到用户的口腔中，所述口腔处理单元包括：

第一清洁元件(24)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中；

电磁场聚焦元件(302)耦合到或集成在所述口腔处理单元中，并且适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场，其中所述电磁场聚焦元件包括第一超材料结构(308)，其中所述第一超材料结构具有第一无源电磁场聚焦功能，所述第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将接收到的所述电磁场限制在距所述第一超材料结构的给定距离处：

所述第一超材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者

对所述电磁场的传播方向修改功能；并且

其中所述电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场，

其中所述电磁场聚焦元件(302)包括用于执行所述调制功能的机械致动器(310)，其中所述机械致动器适于将机械振荡施加到所述第一超材料结构。

2.根据权利要求1所述的口腔处理单元，其中所述机械致动器包括柔性组件(335)，并且其中所述第一超材料结构合并到所述机械致动器中。

3.根据权利要求1或2所述的口腔处理单元，其中所述调制功能包括频率下移功能，所述频率下移功能调制所述受限电磁场的所述初始频率，从而产生具有在低于所述初始频率的期望频率范围内的调制频率的调制的、受限电磁场。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的口腔处理单元，其中所述调制功能适于调制以下一项或多项：

所述受限电磁场的频率；

所述受限电磁场的幅度；以及

所述受限电磁场的相位。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的口腔处理单元(300)，其中所述机械致动器包括以下一项或多项：

CMUT；

电活性聚合物；

铁电聚合物致动器，

压电致动器；

压电式弯曲致动器；以及

MEMS倾斜运动设备。

6.一种口腔处理单元(300)，用于限制和调制具有在1MHz至300GHz的范围内的频率的电磁场并且适于插入用户的口腔中，所述口腔处理单元包括：

第一清洁元件(24)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中；以及

电磁场聚焦元件(302)，耦合到或集成在所述口腔处理单元中，并且适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场，其中所述电磁场聚焦元件包括第一超材料结构(308)，其中所述第一超材料结构具有第一无源电磁场聚焦功能，所述第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将接收到的所述电磁场限制在距所述第一超材料结构的给定距离处：

所述第一超材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者

对所述电磁场的传播方向修改功能；并且

其中所述电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场，

其中：

所述第一超材料结构具有第二无源电磁场聚焦功能，并且其中所述第一无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第一频率分量，并且所述第二无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第二频率分量；或者

所述电磁场聚焦元件包括第二超材料结构(355)，其中所述第二超材料结构具有第二无源电磁场聚焦功能，并且其中所述第一无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第一频率分量，并且所述第二无源电磁场聚焦功能作用于接收到的所述电磁场的第二频率分量。

7.根据权利要求6所述的口腔处理单元(340)，包括第一超材料结构和第二超材料结构，其中所述第一超材料结构(350)相对于所述第二超材料结构(355)而被布置，使得聚焦的所述第一频率分量和聚焦的所述第二频率分量被限制在所述第一超材料结构和所述第二超材料结构两者内，从而使在接收到的所述电磁场的聚焦的所述第一频率分量与接收到的所述电磁场的聚焦的所述第二频率分量之间发生频率混合，从而执行所述频率调制功能。