[发明专利]口腔处理设备

说明书

本发明提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制具有在100kHz至300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。该口腔处理单元还包括耦合到口腔处理单元的材料结构，其适于接收初始电磁场并且输出聚焦电磁场，其中该材料结构具有无源电磁场聚焦功能，其将接收到的初始电磁场聚焦在该材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了一种口腔处理单元或多个口腔处理单元的配件，用于限制和调制具有在1MHz至300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入口腔中，其可以与基座单元组合形成口腔清洁设备的一部分，包括耦合到口腔处理单元的第一清洁元件。口腔处理单元还包括适于接收具有初始频率的电磁场并且输出聚焦电磁场的电磁场聚焦元件。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一无源电磁场聚焦功能通过执行以下一项或多项来将调制的电磁场限制在距第一材料结构的给定距离处：在第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向修改功能。电磁场聚焦元件具有调制受限电磁场的调制功能，从而产生调制电磁场。

技术领域

本发明涉及口腔清洁设备领域，并且更具体地，涉及利用电磁场的口腔清洁设备领域。

背景技术

口腔清洁和卫生领域正在不断发展，特别是在电动牙刷和其他口腔清洁设备领域，诸如刷牙牙套、刷牙和牙线组合设备或冲洗器。

一种这样的发展是包括在用户的牙齿和牙床附近产生射频(RF)电磁场的装置，在本文称为RF场。

图1示出了现有口腔处理单元10的简化示例的模拟结果，口腔处理单元10包括：非导电介电屏障12；第一RF电极13；以及第二RF电极14。

在使用中，将射频范围内的电信号提供给第一和第二RF电极，从而在两个电极之间产生RF场15。由于RF场线不能穿过非导电屏障12，所以RF场围绕介电屏障整形，并且被重新定向/偏转到用户的牙齿和牙床。

换言之，图1的示例使用三个元件来递送RF场：两个暴露的金属导体和一个绝缘体，以及整形和重定向电磁场以靠近牙齿所需的非导电屏障。

然而，图1所示的示例需要许多分离的动力组件，这增加了制造的复杂性，并且需要暴露的金属电接触部位于用户的口腔内，后者由于口腔中机械锋利和电活动的暴露元件而导致较高的受伤或口腔不适的风险。此外，现有的解决方案仅提供了对RF场限制的粗略控制，并且容易以辐射的形式发生电磁能量泄漏。

因此，需要使用更少数目的组件并且不需要将暴露的金属接触部定位在口腔内而产生改进的RF场的限制和聚焦的装置。

此外，产生靠近用户的牙齿和牙床的射频(RF)电磁场(在本文称为RF场)的装置受到尺寸限制，以便舒适地适应口腔。

因此，还需要使用形状因子减小的组件以定位在口腔内来产生受限RF场的装置。

US 10201701公开了口腔清洁设备，其在手柄部分中具有RF发生器，其将RF能量传递到刷头上紧邻刷毛的电极。

发明内容

本发明由权利要求限定。

根据本发明的一个方面的示例，提供了口腔处理单元，用于限制频率具有在100kHz至300MHz范围内的电磁场并且适于插入用户的口腔中，该口腔处理单元包括：

第一清洁元件，其耦合到或集成在口腔处理单元中；以及

耦合到或集成在口腔处理单元中的材料结构，其适于接收初始电磁场并且输出聚焦电磁场，其中该材料结构具有无源电磁场聚焦功能，其将接收到的初始电磁场限制在材料结构的近场区域中。

口腔处理单元提供将例如具有射频(RF)范围内的频率的电磁场聚焦在材料结构的近场区域内的装置，以通过在用户的牙齿或牙床区域中产生受限电磁场(EM)来帮助清洁用户的口腔。