[发明专利]磁场生成装置及磁场生成装置的控制方法在审
| 申请号： | 202180030545.5 | 申请日： | 2021-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN115443173A | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 李静苑 | 申请（专利权）人： | 拉德射尔株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;A61N2/00;A61N2/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;孙昌浩 |
| 地址： | 韩国江原*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明作为将光子束放射线照射到照射对象的体内的患部组织的放射线及磁场生成装置可以包括：放射线产生部，向所述照射对象照射光子束放射线，在被照射所述光子束放射线的所述照射对象的区域中诱导二次电子的产生；磁场产生部，包括设置为插入体内并形成低密度空间的插入结构体，并在所述二次电子所产生的区域中形成磁场；以及同步化控制部，基于所述光子束放射线所照射的区域与所述患部的位置关系来控制所述磁场的形成，以使所述二次电子中的至少一部分向所述低密度空间移动，并且使所述二次电子避开与所述患部组织相邻的正常组织而进行移动。 | ||
| 搜索关键词： | 磁场 生成 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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